Příspěvky uživatele

Z Iurium Wiki
Zobrazení příspěvků
 
 
      
 
   

  • 2. 10. 2024, 21:19 (rozdíl | historie) . . (+11 575). . N Mackenziesanders6141(Založena nová stránka s textem „Atomic layer deposition (ALD) is a promising deposition method to precisely control the thickness and metal composition of oxide semiconductors, making the…“) (aktuální)